High Purity Silicon oxide | SiO - 无机金属

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High Purity Silicon oxide | SiO

一氧化硅颗粒 | 4N氧化亚硅光学级

产品编号: SA-S817697 CAS 号: 10097-28-6 纯度: 99.995+% metals basis, 折射率： 1.8~1.9（可见光波段），在可见光及近红外区域吸收很小，膜层纯净时散射损失低；蒸发速率稳定，便于通过晶振片进行实时监控，实现膜厚精密控制，蒸镀形成的薄膜硬度高、附着力强，自身耐磨损；对大气、水分有良好的阻隔性，能有效保护基底或被封装材料。【应用方向】：增透膜 (AR膜)、分光膜/反射膜、金属反射镜保护膜、半导体与电子器件钝化层/绝缘层、电容器介质膜、装饰与工具涂层。

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货号	价格 (￥)	库存	总额
1-3mm/100g	￥ 520	存货	￥ 0.00
3-6mm/100g	￥ 500	存货	￥ 0.00
1-3mm/500g	￥ 1680	存货	￥ 0.00
3-6mm/500g	￥ 1600	存货	￥ 0.00
10-40mm/500g	￥ 1500	存货	￥ 0.00

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技术参数相关产品

别名:	一氧化硅以其“折中的折射率、坚固耐用的特性、稳定可靠的工艺”在真空镀膜领域占据了经典而稳固的地位。主要应用于可见光到近红外波段的光学元件、耐用性金属反射镜保护，以及一些传统的电子器件。在紫外波段（特别是<300nm）吸收显著增强，因此不适用于高性能的紫外光学薄膜。在某些极端要求（如最高硬度、最高折射率、最低吸收）场景下，此产品可能不符合。
MDL No.:	MFCD00151536
分子式:	SiO
分子量:	44.08
沸点:	1880°C
爆发点:	1880°C
熔点:	1870 °C
贮存:	真空密封，避光，置于通风干燥处，避免接触空气、明火和高温。对眼睛、呼吸道和皮肤有刺激性，操作时需穿戴防护服、手套、护目镜和防尘口罩。